三星發(fā)布先進工藝路線圖：2nm工藝量產計劃及性能水平揭曉

2023-06-28 10:25:44 編輯：嚴嵐柔來源：

導讀三星在2023年第七屆年度三星鑄造論壇（SFF）上公布了令人振奮的消息，揭示了其先進工藝路線圖，其中包括2nm工藝的詳細計劃和性能水平。根據...

三星在2023年第七屆年度三星鑄造論壇（SFF）上公布了令人振奮的消息，揭示了其先進工藝路線圖，其中包括2nm工藝的詳細計劃和性能水平。

根據計劃，三星將于2025年開始大規(guī)模生產面向移動應用的2nm工藝，隨后在2026年擴展到高性能計算（HPC）領域，并于2027年進一步擴展到汽車領域。

三星的2nm工藝（SF2）相較于3nm工藝（SF3）具有出色的性能提升。據官方透露，SF2相比于SF3，性能提升了12％，功效提升了25％，而面積減少了5％，展現出令人矚目的優(yōu)勢。

除了2nm工藝之外，三星還計劃在2026年推出面向高性能計算（HPC）領域的優(yōu)化型SF2P工藝，并在2027年推出面向汽車應用的SF2A工藝。同樣在2027年，三星還計劃開始量產SF1.4（1.4nm）制造工藝，展示其對未來技術發(fā)展的承諾。

三星的先進工藝路線圖為行業(yè)帶來了令人興奮的展望，預示著更高性能和更小尺寸的芯片將成為可能。這一重大突破將推動移動應用、高性能計算和汽車領域的發(fā)展，為未來的創(chuàng)新和技術進步鋪平了道路。

標簽：三星

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